ISO 17331-2004 表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定

作者:标准资料网 时间:2024-05-10 15:42:13  浏览:9366   来源:标准资料网

【英文标准名称】:Surfacechemicalanalysis-Chemicalmethodsforthecollectionofelementsfromthesurfaceofsilicon-waferworkingreferencematerialsandtheirdeterminationbytotal-reflectionX-rayfluorescence(TXRF)spectroscopy
【原文标准名称】:表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
【标准号】:ISO17331-2004
【标准状态】:现行
【国别】:国际
【发布日期】:2004-05
【实施或试行日期】:
【发布单位】:国际标准化组织(IX-ISO)
【起草单位】:ISO/TC201
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:X射线;表面;定义;含量测定;特性;全反射;X射线荧光光谱法;硅片;光谱学;硅;精整;X射线分析;化学分析和试验;薄片;印制电路板
【英文主题词】:Chemicalanalysisandtesting;Definitions;Determinationofcontent;Finishes;Printed-circuitboards;Properties;Silicon;Siliconslices;Spectroscopy;Surfaces;Totalreflection;Wafers;X-ray;X-rayanalysis;X-rayfluorescencespectrometry
【摘要】:ThisInternationalStandardspecifieschemicalmethodsforthecollectionofironand/ornickelfromthesurfaceofsilicon-waferworkingreferencematerialsbythevapour-phasedecompositionmethodorthedirectaciddropletdecompositionmethod.ThisInternationalStandardappliestoironand/ornickelatomicsurfacedensitiesfrom6×109atoms/cm2to5×1011atoms/cm2.
【中国标准分类号】:G04
【国际标准分类号】:71_040_50
【页数】:18P;A4
【正文语种】:英语